Die CGS-Technik, Continuous Grain Silicon (CG- Si), ist eine von Sharp entwickelte Siliziumtechnik, die gegenüber amorphem Silizium eine regelmäßige Kristallstruktur mit einheitlicher Korngröße und Anordnung aufweist.
Continuous Grain Silicon, also Silizium mit einheitlicher Korngröße, zeichnet sich aus durch eine sehr hohe Elektronenbeweglichkeit, die etwa 600-mal so hoch ist wie die von amorphen Silizium. CGS-Silizium kann in extrem dünnen Schichten von unter 3 µm realisiert werden. Dadurch können Displays in LTPS-Technik mit kleineren Pixelgrößen und mit höheren Auflösungen hergestellt werden, die das UHD-Format wiedergeben können.
Die extrem dünne CGS-Technik macht es möglich ganze Schalkreise unmittelbar auf das Displayglas aufzutragen. Quasi ein zweites Display, welches das untere Display überlagert. Oder es könnten Multi-Touchscreens und auch andere Funktionseinheiten wie Display- Controller, LCD-Interface, Speicher oder Image- Prozessor auf der Glasplatte aufgebracht werden. Die Vorstellungen reichen über Schaltkreise für Bluetooth und WLANs, für das GPS-System und RFID bis hin zu Schaltkreisen für die drahtlose Energieübertragung. Andererseits kann die extrem dünne CGS-Technik auch in CGS- Projektoren eingesetzt werden, wo sie weniger Licht absorbiert als beispielsweise eine LCD- Schicht.