In der Halbleiterelektronik werden Kondensatoren in MOS-Technologie aufgebaut. Sie werden in Halbleiterspeichern, Schieberegistern und CCD-Sensoren eingesetzt und bestehen aus verschiedenen Schichten aus Siliziumsubstrat, einer Oxidschicht aus Siliziumoxid und einer Metallschicht aus Aluminium. Silizium (Si) und Aluminium (Al) bilden die Elektroden des Kondensators, Siliziumoxid (SiO2) das Dielektrikum. Diese integrierten Kondensatoren werden als MOS-Kondensatoren bezeichnet.
Die Aluminium-Elektrode wird dabei oft als Gate bezeichnet. Anstelle von Aluminium wird auch polykristallines Silizium benutzt. Die Dicke des Dielektrikums kann je nach Anforderung nur einige Nanometer betragen.