Seit der Einführung der Insulated Gate Bipolar Transistor ( IGBT) wurden diese ständig weiterentwickelt, sie wurden kompakter und leistungsfähiger.
Der Carrier Stored Trench-Gate Bipolar Transistor (CSTBT) ist eine solche Weiterentwicklung, die bereits bestimmte Schichten des Trench-IGBT (TIGBT) übernommen hat.
Der CSTBT hat gegenüber dem IGBT eine zusätzliche n-dotierte Schicht mit einer relativ hohen Unreinheit, die zwischen der p-Schicht und der n-Schicht eingefügt wurde. Diese Schicht wirkt wie ein Graben und hat den Zweck, die Spannungen an den Schichtübergängen zu erhöhen. Sie stellt für die Lochwanderungen eine hohe Hürde dar.