Die Fotolithografie wird bei der Chipherstellung und der Herstellung von LCD-Displays und Plasma-Displays eingesetzt. Bei der Fotolithografie wird die Schaltkreisvorlage, die sich auf einer Fotomaske befindet, mittels Laser oder anderer Belichtungstechniken auf den Wafer projiziert.
Um eine möglichst hohe Auflösung der Chipstrukturen zu erreichen, nutzt man für die Belichtung ultraviolettes Licht von Lasern, weil das die geringsten Dispersionen aufweist. Außerdem stehen kurze Wellenlängen für ein hohes Auflösungsvermögen. Je geringer die Wellenlängen sind, desto besser ist die Auflösung. Um also extrem feine Strukturen belichten zu können, werden in der Fotolithografie Argon-Fluorid-Laser und Krypton-Fluorid-Laser mit 193 nm und 248 nm eingesetzt. Das UV-Licht wird als Deep Ultraviolet ( DUV) bezeichnet.
Noch höhere Auflösungen erreicht man mit Extreme Ultraviolet ( EUV). Die Wellenlängen der EUV-Lithografie liegen zwischen 100 nm und 10 nm. Mit den daraus resultierenden Strukturbreiten von etwa 2 nm können winzige Chips in Nanotechnology hergestellt werden.